什么是不銹鋼反應釜中的氣液分散問題？

由于氣液的不相容性，且密度區(qū)別特別大，氣液反應器中未反應的氣體聚集在釜內的上部空間，嚴重危害了反應速率和效率。同時，固體催化劑飄浮的不勻稱也約束力了反應的速率。為提升反應速率，不銹鋼反應釜在處理氣液分散問題，通常選用氣體內循環(huán)、液體外循環(huán)和氣體外循環(huán)幾種方法，接下來不銹鋼反應釜生產廠家華邦智能裝備就來和大家介紹下不銹鋼反應釜中的氣液分散問題。

一、氣液內循環(huán)：氣液內循環(huán)的反應器為自吸式氣液反應器，它是氣、液反應裝置的核心技術之一，是一種無需附加的氣體輸送設備而能自行吸入不銹鋼反應釜上部空間氣體開展氣液觸碰的反應裝置，根據獨特設計構思的空心增壓攪拌裝置在料液混合的同時持續(xù)吸入液位上的反應氣體，超過氣液循環(huán)系統(tǒng)與分散目的，同時組成使用的高效率軸流槳能將氣體與固體催化劑勻稱地彌漫在不銹鋼反應釜內，超過危機處理的目的。

二、液體外循環(huán)：液體外循環(huán)是用離心泵將反應液體從反應器底端抽出來，根據抽吸不銹鋼反應釜氣相空間內的反應氣體，使原材料充足混合與分散，可獲得非常細微的汽泡，大大提高氣液相觸碰總面積和反應速率。液體外循環(huán)式的優(yōu)勢是反應速率快，可持續(xù)生產，熱傳導便捷等； 

三、氣體外循環(huán)：氣體外循環(huán)是將反應氣體從氣相空間找出，氣體根據制冷壓縮機增壓后再從不銹鋼反應釜底端進入，在磁力攪拌器的配合下，可獲得很大的持供氣量和相觸碰總面積，進而提升反應速率，其優(yōu)勢是可獲得任意的氣體循環(huán)系統(tǒng)量。氣液分散與反應問題在化工廠和醫(yī)藥磁場不銹鋼反應釜的運用中是常常碰到的，他們的相互特點是反應速率受氣、液傳質的操縱，而氣、傳質涉及氣體分散、氣體循環(huán)系統(tǒng)、及其固體催化劑飄浮等過程，問題變得非常復雜，但如今大伙兒能夠使用不銹鋼反應釜去處理這一問題的產生。

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